CuBi2O4光陰極的旋涂工藝及光電化學性能研究 楊杰; 杜純 華中科技大學材料科學與工程學院; 湖北武漢430074 摘要:采用旋涂法在導電玻璃(FTO)上制備了CuBi2O4薄膜。通過調控旋涂的次數,得到具有較優光電化學性能的CuBi2O4薄膜。同時研究了多次旋涂過程中旋涂轉速、烘干溫度對制備的薄膜的均勻性的影響。實驗結果表明:采用3 000 r/min轉速,300℃的烘干溫度可以得到均勻的薄膜。旋涂層數為4層時可以得到最優的光電催化性能,較旋涂3次的薄膜性能提升72%。 注: 保護知識產權,如需閱讀全文請聯系遼寧化工雜志社