一種新型的常通型GaN HEMT器件
摘要:對新型常通型GaN HEMT器件的特性和參數進行了研究。闡述了其靜態和動態特性以及電流崩塌問題。針對其動態特性,與相近定額的Si MOSFET器件(TK2Q60D)在開通、關斷時間與柵源電壓的關系方面進行了對比,探討了常通型GaN HEMT器件在不同輸入電壓和不同開關頻率下的電流崩塌現象,并采用升壓(Boost)電路,對常通型GaN HEMT器件和Si MOSFET器件的最高工作頻率能力進行了對比。實驗結果表明,常通型GaN HEMT器件具有更高的工作頻率,且工作頻率的升高不影響電流崩塌現象。
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