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PBD空穴緩沖層對有機電致發光器件的改善作用

張志峰; 劉青益; 郭棟; 蘇展 北京交通大學理學院; 北京; 100044; 許昌職業技術學院規劃建筑工程系; 河南; 許昌; 461000; 北京交通大學光電子技術研究所; 北京; 100044

摘要:實驗中制備了不同厚度的緩沖層PBD修飾的有機電致發光器件以及沒有緩沖層修飾的有機器件.通過比較發現緩沖層PBD的最優厚度為0.2nm,緩沖層PBD對于器件亮度有顯著的影響.當緩沖層PBD厚度為0.2nm,相同電壓下器件的亮度要比無緩沖層器件的亮度要高.當電壓為16V時,PBD修飾的器件的亮度為1984cd/A,而沒有緩沖層材料修飾的器件的亮度為1110cd/A,器件的亮度得到了提高.在電流密度為120mA/cm2的情況下,PBD修飾的器件的效率為3cd/A,要比沒有緩沖層材料修飾的器件的效率(為2.6cd/A)高.最主要的原因是由于PBD是電子傳輸層,因此它對于空穴的注入起阻擋作用.所以緩沖層PBD阻擋和減少了空穴的注入,提高了電子和空穴形成激子的比例,從而提高了器件的效率.

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