新型基礎(chǔ)測(cè)繪標(biāo)準(zhǔn)化探討
摘要：究新形勢(shì)下我國新型基礎(chǔ)測(cè)繪對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的需求,不僅能促進(jìn)領(lǐng)域內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)的協(xié)調(diào)統(tǒng)一,而且也為我國基礎(chǔ)測(cè)繪的轉(zhuǎn)型升級(jí)和有序開展提供保障。在研究新型基礎(chǔ)測(cè)繪目標(biāo)與內(nèi)容,梳理國內(nèi)當(dāng)前基礎(chǔ)測(cè)繪標(biāo)準(zhǔn)以及分析國外的測(cè)繪技術(shù)、數(shù)據(jù)產(chǎn)品和應(yīng)用服務(wù)現(xiàn)狀的基礎(chǔ)上,探討信息時(shí)代測(cè)繪新技術(shù)發(fā)展、測(cè)繪事業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、提高基礎(chǔ)測(cè)繪應(yīng)用性及更好地為經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展服務(wù)等對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的需求,提出新型基礎(chǔ)測(cè)繪的標(biāo)準(zhǔn)化內(nèi)容,為后期新型基礎(chǔ)測(cè)繪標(biāo)準(zhǔn)框架建設(shè)等標(biāo)準(zhǔn)化工作提供參考。
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