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Ce基低溫NH3-SCR催化劑的研究進(jìn)展

張志平; 楊飄萍 哈爾濱工程大學(xué); 材料科學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院; 哈爾濱150001

摘要:NH3選擇催化還原(NH3-SCR)是一種優(yōu)異的NOx脫除技術(shù),當(dāng)前該技術(shù)中使用最廣泛的商業(yè)催化劑為V2O5-WO3(WO3)/TiO2。由于這種催化劑中含有毒的V﹑且具有強(qiáng)的SO2氧化能力以及高的操作溫度窗口(350~400℃)等原因,并不適用于低溫條件下使用。因此,發(fā)展一種在低溫下具有較高活性以及對環(huán)境友好的催化劑受到了研究者們的廣泛關(guān)注。近些年,人們發(fā)現(xiàn)Ce基氧化物催化劑具有獨(dú)特的氧儲存和釋放以及氧化還原性能,在NH3-SCR反應(yīng)中表現(xiàn)出優(yōu)異的低溫催化活性,被認(rèn)為是SCR反應(yīng)催化劑的候選者。在此本文詳細(xì)地闡述了Ce基氧化物催化劑用于低溫NH3-SCR反應(yīng)過程中的研究進(jìn)展(活性以及抗硫性能)和存在的缺點(diǎn),為未來高效Ce基氧化物催化劑的研發(fā)提供指導(dǎo)。

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